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更新时间:2025-12-05
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在现代真空技术领域,分子泵组因其能够实现高真空乃至超高真空环境,被广泛应用于半导体制造、材料研究、表面分析、光电器件制备、真空镀膜等多个行业。本文结合某型号分子泵组的具体参数(如一键启动控制方式、TURBOVAC 90i 分子泵、极限真空度 10⁻⁸ Pa、系统漏率 1×10⁻¹⁰ Pa·m³/s 等),从技术特点、典型应用场景与使用案例三个维度进行深入分析。

该分子泵组具备高性能的真空抽气能力,主要技术参数如下:
控制方式: 一键启动,操作简便,降低使用门槛
分子泵: TURBOVAC 90i,抽速 90 L/s,适用于高真空需求
前级泵: 双极旋片油泵(可选 1.2 m³/h 浮动式涡旋干泵)
前级抽速: 2 m³/h
复合真空计: PTR90(测量范围从大气至 5×10⁻⁷ Pa)
极限真空度: 10⁻⁸ Pa
接口规格: KF40(可选 KF25、KF16)
冷却方式: 风冷,适合各种实验室环境
系统漏率: 1×10⁻¹⁰ Pa·m³/s,稳定性与密封性出众
电源: 220V 50Hz
体积与重量: 400×340×260 mm,18kg,便携性较好
这些特点使其成为科研、工业、高真空设备配套的理想选择。

半导体工艺,如沉积(PVD、CVD)、离子刻蚀、表面清洗等,都需要高真空环境,以避免微粒污染和化学反应干扰。
分子泵组凭借 10⁻⁸ Pa 的极限真空度,可为光刻、薄膜沉积及晶圆加工提供可靠的前端真空条件。
使用案例:
某晶圆厂在光刻胶去除工序中采用该分子泵组,与接触式清洗腔体配套使用,通过快速抽空提升工序效率,并提高晶圆表面洁净度。
表面分析技术对真空度有较高要求,若腔内残余气体过多,会影响电子能谱、离子信号和探测灵敏度。
该分子泵组的特点:
高抽速(90L/s)
超低漏率(1×10⁻¹⁰ Pa·m³/s)
极限真空可达 10⁻⁸ Pa
非常适合作为材料研究设备的独立真空源或配套泵组。
使用案例:
某高校材料学院使用该分子泵组作为 XPS(X 射线光电子能谱仪)的备份真空系统,在仪器维护期进行辅助抽真空,确保分析结果的稳定性与重复性。
光电薄膜制备过程涉及多种敏感材料,需要低氧低水污染环境。
该分子泵组:
风冷设计,耐用稳定
体积小,便于与蒸镀室集成
KF40 接口适配性强
特别适用于实验室级蒸镀设备和原型开发线。
使用案例:
某研究机构在开发新型红外探测器时,使用该分子泵组配套蒸镀腔,确保在薄膜沉积期间腔体真空保持在 10⁻⁷ Pa 量级,提高器件量产良率。
镀膜过程中,腔体内若存在过多气体,会导致膜层附着力降低、氧化严重等问题。
分子泵组凭借:
高抽速
稳定风冷
快速启动前级泵
能显著缩短真空抽空时间,提高镀膜效率。
使用案例:
某光学镀膜厂使用分子泵组用于镀反射镜的底抽过程,抽空时间比原系统缩短 30%,产线整体效率提升 15%。
适用于:
质谱仪(MS)
真空炉
离子束溅射
等离子体实验装置
低温实验样品腔体
其一键启动功能与稳固的真空性能,使其非常适合多种跨学科研究。
使用案例:
物理实验室使用此分子泵组搭建独立的测试腔体,用于低温环境(LHe)下的材料电学测量,其高稳定性保证了长时间实验的真空可靠性。

通过这些案例我们可以看到,该分子泵组因其体积小、抽速高、操作简单、真空稳定,特别适合集成到科研设备、半导体工艺模块、光电蒸镀系统等应用中。无论是工业产线还是研究实验室,它都能以稳定的真空能力为实验与生产提供可靠保障。
分子泵组作为高真空系统的核心部件,其性能直接影响着设备的工作稳定性和测试精准度。凭借 TURBOVAC 90i 分子泵、高稳定前级泵、超低漏率密封结构及一键启动控制方式,该型号分子泵组兼具易用性、便携性与专业性,可广泛应用于半导体、材料科学、光电器件、真空镀膜及科研实验等领域。
它不仅提升了高真空系统的运行效率,也为科研和工业创新提供了坚实的基础支撑。